Tercero De Cemento De

Tips para escribir mejor en 15 minutos

El aumento de la productividad de los reactores exige la aplicación de unos sistemas más difíciles de plasma, en que se usan las recepciones distintas del aumento de la densidad del plasma. Eran elaborados en primer lugar los reactores, en que para el aumento de la longitud de la carrera libre de los electrones es introducido paralelo al substrato el campo magnético. Tal tipo de la categoría es conocido como la categoría de Penninga, la categoría o la categoría en cruzado eléctrico y los campos magnéticos. La acción de la fuerza de Lorentsa lleva a difícil krivoli-neynomu al movimiento de los electrones cerca de la superficie de trabajo que aumenta el número de las actas de la ionización y lleva a la formación del campo denso de plasma cerca de la superficie del substrato.

Notaremos que la creación de los reactores con una alta densidad de los iones de reacción y el componente frío electrónico es con todo la tarea no decidida, y los tecnólogos usan más a menudo las recepciones distintas de la defensa de las paredes laterales de las líneas, la introducción de las añadiduras distintas que pasivan en las mezclas. Así, por ejemplo, a la corrosión Si la añadidura del oxígeno llevan a lo que la fase que se forma en las superficies verticales y horizontales de la microestructura más despacio de las superficies laterales.

Poseiendo una serie entera de las ventajas y satisfaciendo prácticamente todas las exigencias para de la corrosión, ICP los reactores son en realidad la maquinaria estandartizada durante la producción de los microesquemas con por el permiso.

Gracias a lo que las nuevas generaciones de los ordenadores exigen siempre más grande y la capacidad la memoria, también lo que como parte de estos microesquemas se usan la cantidad enorme de los elementos del mismo tipo, estos microesquemas poseen el grado más alto de la integración

Por el segundo momento importante durante el examen del problema de la selectividad hay una correlación óptima de la velocidad de la corrosión de la capa quitada y. Los procesos secos de plasma tienen las bastante altas velocidades de la corrosión. Es fuerte Especialmente este problema se manifiesta a la corrosión con un alto permiso, puesto que en este caso el espesor no puede superar el espesor de la línea, o a la recepción de las estructuras con una alta relación de la altura de la línea a su anchura.

Los procesos húmedos de la corrosión tienen una muy alta selectividad y con el éxito is-usan a la fabricación de los microesquemas con las dimensiones de la escala de un micrón. Sin embargo a la corrosión de las líneas con por el permiso y al mismo tiempo con una alta relación de la altura de la línea a su anchura los procesos húmedos dejan de trabajar. Se puede distinguir las causas siguientes que limitan la aplicación de los procesos húmedos.

Distinguen habitualmente dos variedades de los procesos de plasma de la corrosión – directamente de plasma y. Bajo de plasma son comprendidos los procesos, que el substrato tratado o su portador son en cierta medida los elementos del reactor de plasma y participan en la ionización del gas de trabajo. Puesto que las capas, quitadas por la corrosión, tienen, como regla, una alta resistencia (los aisladores o los semiconductores), para la excepción del cargador de la superficie usan la categoría frecuente. En los procesos el tratamiento de los substratos pasa por el flujo de los iones o las partículas neutrales formadas en la fuente autónoma.

En la corrosión de plasma, que llaman a veces la corrosión física, se realiza bien conocido y ampliamente aplicado (por ejemplo, para la sedimentación de las películas delgadas) el proceso de la pulverización de cátodo del substrato por los iones del gas inerte. Sin embargo esta técnica no ha recibido la aplicación ancha por razón de la selectividad baja del proceso.